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国产光刻机启示录:中国芯片厂商要吸取日本半导体教训
2018-12-26管理员1057

转载自百家号作者:湖北青年郭仕亮

        发展国产芯片是14亿的中国老百姓的共同心愿,为了制造出拥有自主技术的“中国芯”,很多卓越的工程师在日夜奋战,制造国产芯片只是中国芯片发展的重要一步,我们更要掌握很多半导体核心装备的国产化,比如高端芯片光刻机。在这里,想提一个醒:中国光刻机厂商要重视吸取日本经验教训。

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        要说当前高端光刻机的霸主是谁?很多人都会指向来自荷兰的ASML,全世界能够制造出7nm制程的EUV光刻机厂商仅此一家,国内芯片制造厂商中芯国际就耗资了一整年利润向ASML订购了一台高端光刻机。虽然现实残酷,但也警醒了我们。

        万丈高楼平地起,ASML也不是一开始就这么“牛x”,起初他只是飞利浦公司的一个部门而已,那个时候全球的光刻机霸主是日本尼康、佳能。光刻机,顾名思义是要用到光学技术制造晶圆,日本有很多世界知名的光学品牌,在光刻机技术研究方面可谓是领先全球,20年前的intel,三星,台积电的工程师们基本上都是使用尼康、佳能的光刻机,可日本光刻机为什么现在没落了呢?

        这里面就不得不提到日本的“终身制劳动”,半导体是高精尖科技,“一步落后,步步落后”,如果老的科研人员占着位置,不提携年轻科学家,那无异于扼杀技术创新。荷兰ASML能够取代日本尼康成为全球光刻机霸主,其中就有一种敢于冒险的精神。

        2007年,ASML和台积电合谋研发一种浸没式光刻机,而尼康和佳能觉得干式光刻机卖得很好,没必要去重金投入研发那种不确定的浸没式光刻技术,而且投资研发一种新型技术会带来不确定,万一做砸了呢?结果,ASML在浸没式光刻机领域累计 1万个以上专利。等到尼康、佳能想做的时候已经失去了机会,从此一蹶不振。


        直到今天,ASML依然不放松前沿技术研发,研发人员比重很大,有鉴于此,国产光刻机要坚持技术研发导向,产品更出色,市场终会向你走来,这就是半导体产业的游戏规则,台积电率先完成7nm工艺,于是迅速拿下苹果A12、华为麒麟980、高通855的订单,反观三星却是“一步慢,步步慢”。

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